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  • HORIBA GD Profil射頻輝光放電光譜儀（GD）

    輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。

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    產(chǎn)品價(jià)格：面議
    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    更新日期：2024-06-04
  • RISE拉曼電鏡聯(lián)用系統(tǒng)

    拉曼電鏡聯(lián)用系統(tǒng)RISE顯微鏡集成了獨(dú)立的掃描電鏡和一臺(tái)共聚焦拉曼顯微鏡的所有功能于一體。

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    產(chǎn)品價(jià)格：面議
    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    更新日期：2024-06-03
  • 高分辨ICP光譜儀

    高分辨ICP光譜儀是一種均相溶液分析技術(shù)。高溫等離子體激發(fā)樣品中的原子和離子產(chǎn)生發(fā)射光譜，通過對(duì)其譜線及其強(qiáng)度進(jìn)行測(cè)量，從而進(jìn)行樣品中元素的定性和定量分析。

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    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    更新日期：2024-06-03
  • CRAIC 20/30全光譜分光光度計(jì)

    全光譜分光光度計(jì)美國(guó)CRAIC發(fā)布的新20/30PV顯微光譜分析集成系統(tǒng)為紫外-可見-近紅外顯微光譜學(xué)設(shè)定了一個(gè)新的標(biāo)準(zhǔn)。

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    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    更新日期：2024-06-03
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